

● 前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程),1微米分辨率
● 后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率
● 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.02° 增量
● 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转
● 6倍速样品自动摆动
● 8倍速样品自动旋转
MultiPrep™系统适用于高精密(金相,SEM,TEM,AFM等)样品 的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光,精确角度抛光,定点抛 光或几种方式结合抛光。它解决了操作者之间的不一致性,提供可重 复的结果;而不管他们的技能如何,MultiPrep 无须手持样品,保证 只有样品面与研磨剂接触。
双测微计(倾斜度和摆动度)允许相对于研磨盘进行精确的样品 倾斜度调整,精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预 定义的几何方向。
数字指示器可以量化材料的去除率,可以实时监测或进行预先设 定的无人操作。可变速的旋转和振荡,能够最大限度地提高整个研磨 /抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制,扩大了其从小样品 (易碎样品)到大样品的全方位处理能力。
常见的应用包括并联电路层级、横截面、楔角抛光等。

● 前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程),1微米分辨率
● 后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率
● 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.02° 增量
● 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转
● 6倍速样品自动摆动
● 8倍速样品自动旋转
● 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置 工作夹具
● 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩,较大或封装的样品
● 样品调整范围:0-600克(100克增量)
● 美国ALLIED设计制造
● 7“LCD触摸屏,带键盘输入控制所有功能
● 研磨盘速度范围:5-350 RPM(5转速增量)
● 顺时针/逆时针研磨盘旋转
● 数字计时器和转速表
● 可选的AD-5 ™自动操作流体分配器
● 调节阀电子控制冷却液
● 0.5 HP(375 W),高扭矩马达
● 稳定的RIM,铝和不锈钢结构
● 腐蚀/耐冲击盖
● 一年保修
● 符合欧盟CE标准
● 由美国Allied设计制造
| 编号 | 描述 |
| 15-2100 | MultiPrep™精密抛光系统,用于8”研磨盘, 100-240V 50/60Hz 1相 |
| 包括:飞溅环和压板盖,刻度盘指示器校准套件,夹具 /附件存储盒 | |
| 尺 寸: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm) | |
| 重量: 95 lb. (43 kg) | |
| 15-2100-TEM | 带O型环驱动的MultiPrep™系统,用于8”研磨盘, 100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微 镜而设计样品制备精致材料研磨抛光 |
| 包括:飞溅环和压板盖,刻度指示器校准套件,夹具/ 附件存储盒 | |
| 尺 寸: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm) | |
| 重量: 125 lb. (57 kg) |
