高性能、高容量等离子体处理
AP-1000™等离子系统旨在满足高性能制造环境中24小时运行的严格要求。该系统提供均匀的等离子体处理，具有无与伦比的可靠性、安全性和易操作性。
● 一个紧凑的外壳，包含泵、腔室、控制电子设备和13.56 MHz射频发生器，具有阻抗匹配功能，可实现无与伦比的过程可重复性
● 由11号不锈钢和铝合金制成的等离子室具有卓越的耐用性
● 直观的触摸屏控制面板，用于实时过程监控
● 多个可拆卸和可调节的架子，可容纳各种零件载体，包括弹匣（最多12个）、托盘、晶圆和Auer®
● 多个可拆卸和可调节的架子，可容纳各种零件载体，包括弹匣（最多12个）、托盘、晶圆和Auer®
● 所有内部部件的前部入口和泵都位于滚轮上，便于拆卸
● 可选的高通量货架（AP-1000 HTP）可提高处理均匀性并缩短处理时间。支持一系列工艺气体，包括氩气、氢气和氦气，配备四个质量流量控制器，并具有垂直放置的开槽弹匣，可容纳至少20个引线框架。
● 等离子体清洗
● 表面活化
● 附着力提高
| 外壳尺寸 | 宽x深x高——占地面积 | 680W x 1127D x 1890H（26.77W x 62.3D x 74.4H英寸） |
| 净重 | 485公斤（1069磅） | |
| 设备清理 | 右，左–153毫米（6英寸），前–680毫米（27英寸），后–483毫米（19英寸） | |
| 腔 | 最大音量 | 127 升 (7774 in³) |
| 可变电极配置 | 电源接地、接地电源、电源 | |
| 电极位置数量 | 14 | |
| 电极间距 | 25.4 mm (1 in.) for 600 W 50.8 mm (2 in.) for 1000 W | |
| 电极 | 动力工作区 | 349W x 425D mm (13.74W x 16.73D in.) |
| 地面/穿孔工作区 | 384W x 425D mm (15.12W x 16.73D in.) | |
| 浮动工作区 | 349W x 425D mm (13.74W x 16.73D in.) | |
| 射频功率 | 标准功率 | 600 W |
| 可选功率 | 1000 W | |
| 频率 | 13.56 MHz | |
| 气体控制 | 可用流量 | 10, 25, 50, 100, 250, 500, 1000, 2000 or 5000 sccm |
| MFC的最大数量 | 4 | |
| 控制系统和接口 | 软件控制 | 带触摸屏接口的PLC控制 |
| 远程接口 | PlasmaLINK, ProcessLINK, SECS/GEM | |
| 真空泵 | 标准湿式泵 | 53立方英尺/分钟，带氧气油雾消除器 |
| 可选湿式泵 | 53立方英尺/分钟，带腐蚀性油雾消除器 | |
| 可选净化干式泵 | 63 cfm | |
| N2吹扫泵流量 | 14 slm | |
| 冷却水吹扫泵流量 | 5 slm | |
| 设施 | 电源 | 220 V，25 A，50/60 Hz，3相，8 AWG，4线 380 V，25 A，50/60 Hz，3相，8 AWG，5线 |
| 工艺气体配件尺寸和类型 | 外径6.35毫米（0.25英寸）的世伟洛克卡套管 | |
| 工艺气体纯度 | 实验室级或电子级 | |
| 工艺气体压力 | 最小0.69巴（10 psig）至最大1.03巴（15 psig），调节 | |
| 吹扫气体配件尺寸和类型 | 外径6.35毫米（0.25英寸）的世伟洛克卡套管 | |
| 吹扫气体纯度 | 实验室级或电子级N2/CDA | |
| 吹扫气体压力 | 最小2巴（30psig）至最大6.9巴（100psig），调节 | |
| 气动阀配件尺寸和类型 | 外径6.35毫米（0.25英寸）的世伟洛克卡套管 | |
| 气动气体纯度 | CDA，无油，露点≤7°C（45°F），颗粒尺寸<5µm | |
| 气动气体压力 | 最小3.45巴（50psig）至最大6.89巴（100psig），调节 | |
| 排气 | 外径38毫米（1.5英寸）的管法兰 | |
| 合规 | SEMI | S2/S8（EH&S/人体工程学） |
| 国际 | CE标志 | |
| 辅助设备 | 空气净化机 | 氮气、氢气（需要额外的非可选硬件） |
| 设施 | 冷却器、洗涤器 |
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