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MACROVUE-P

MACROVUE-P成像能力超越现代标准,为半导体制造工厂提供高端FA实验室功能。

ODIS是基于当前平台与行业反馈研发的最新声学显微镜软件,内置丰富技术内容。通过量化工具提供零件测量与分类的高级分析功能。

ODlIS的分析版使非扫描计算机能够实现虚拟扫描、查看和分析数据,支持实时同步分析或采集后复核。

为何选择我们?

OKOS是寻求SAM系统解决方案客户的首选,因为我们依托灵活的ODIS软件、随时待命的支持团队以及与PVA TePla的合作伙伴关系,为各企业提供最优质的SAM体验。


● 我们通过广泛的分销商和代表渠道为全球客户提供服务。

● 我们是全球领先的SAM系统和仪器解决方案提供商。

● 我们提供超过15种灵活且即用型的系统和组件。


缺陷检测

● 多个区域

● 近地表

● 地下

● 内部零件


关于MACROVUE-P
免维护扫描轴

电机:四线性伺服

最大速度:高达2000毫米/秒

精度和重复性:+/-0.5微米

扫描信封:最大2500毫米

低维护步进轴

台阶包络:高达1500毫米

低维护焦点轴聚焦包络:高达150毫米
深度:可达300毫米
客户界面双27英寸高清LED显示器
夹具

定制夹具

可选通过传输

led照明

仪器仪表

数字脉冲接收机

可选第二频道

高达12 GHz的数字化仪

扫描区域高达2500毫米x 1500毫米


OKOS数字成像系统

MACRoVUE-P成像能力超越现代标准,为半导体制造设施提供优质的FA Lab功能。

ODIS是基于当前平台和行业反馈构建的最新声学显微镜软件,具有丰富的技术内容。通过定量工具对零件进行测量和分类,提供高级分析。

ODIS的分析版本允许非扫描计算机虚拟扫描、查看和分析数据,以便同时进行实时分析或收集后审查。


包括软件型号

● 基本(用户友好)

● 高级(详细分析)

● 生产(自动扫描)

● 离线分析(虚拟扫描)


专用传感器

具有最高质量分辨率的专用传感器。多传感器设计,增强扫描能力。