

MACROVUE-P成像能力超越现代标准,为半导体制造工厂提供高端FA实验室功能。
ODIS是基于当前平台与行业反馈研发的最新声学显微镜软件,内置丰富技术内容。通过量化工具提供零件测量与分类的高级分析功能。
ODlIS的分析版使非扫描计算机能够实现虚拟扫描、查看和分析数据,支持实时同步分析或采集后复核。
OKOS是寻求SAM系统解决方案客户的首选,因为我们依托灵活的ODIS软件、随时待命的支持团队以及与PVA TePla的合作伙伴关系,为各企业提供最优质的SAM体验。
● 我们通过广泛的分销商和代表渠道为全球客户提供服务。
● 我们是全球领先的SAM系统和仪器解决方案提供商。
● 我们提供超过15种灵活且即用型的系统和组件。
● 多个区域
● 近地表
● 地下
● 内部零件
| 免维护扫描轴 | 电机:四线性伺服 最大速度:高达2000毫米/秒 精度和重复性:+/-0.5微米 扫描信封:最大2500毫米 低维护步进轴 台阶包络:高达1500毫米 |
| 低维护焦点轴 | 聚焦包络:高达150毫米 |
| 箱 | 深度:可达300毫米 |
| 客户界面 | 双27英寸高清LED显示器 |
| 夹具 | 定制夹具 可选通过传输 led照明 |
| 仪器仪表 | 数字脉冲接收机 可选第二频道 高达12 GHz的数字化仪 |
| 扫描区域 | 高达2500毫米x 1500毫米 |

MACRoVUE-P成像能力超越现代标准,为半导体制造设施提供优质的FA Lab功能。
ODIS是基于当前平台和行业反馈构建的最新声学显微镜软件,具有丰富的技术内容。通过定量工具对零件进行测量和分类,提供高级分析。
ODIS的分析版本允许非扫描计算机虚拟扫描、查看和分析数据,以便同时进行实时分析或收集后审查。
● 基本(用户友好)
● 高级(详细分析)
● 生产(自动扫描)
● 离线分析(虚拟扫描)
具有最高质量分辨率的专用传感器。多传感器设计,增强扫描能力。

